Μέθοδος καθαρισμού αντιδραστήρα τιτανίου

1. Χημικός καθαρισμός: Σε αυτή τη μέθοδο, είναι απαραίτητο να προσδιοριστεί πρώτα η σύνθεση ρύπων στον αντιδραστήρα. Εάν δεν υπάρχει επαρκής εμπειρία υποστήριξης, συνιστάται η δειγματοληψία και η ανάλυση. Αφού προσδιοριστεί η σύνθεση της βρωμιάς, επιλέγεται το καθαριστικό για να επιβεβαιωθεί ότι δεν θα προκαλέσει διάβρωση στο μέταλλο του εξοπλισμού μέσω πειραμάτων. Στη συνέχεια, εγκαθίσταται μια προσωρινή συσκευή κυκλοφορίας επί τόπου για να κυκλοφορήσει το διάλυμα καθαρισμού στον εξοπλισμό για να ξεπλύνει τη βρωμιά.
2. Μηχανικός καθαρισμός: η συσκευή αντιδραστήρα του εργαστηρίου καθαρισμού υψηλής πίεσης χρησιμοποιείται για την πλύση της βρωμιάς με νερό υψηλής πίεσης 150-200Mpa μέσω του ακροφυσίου.
Οι δύο μέθοδοι έχουν τα δικά τους πλεονεκτήματα και μειονεκτήματα. Ο χημικός καθαρισμός απαιτεί λιγότερη εργασία, απαιτεί σύντομο χρόνο καθαρισμού και είναι ενδελεχής, αλλά προκαλεί επίσης τον κίνδυνο διάβρωσης του εξοπλισμού του αντιδραστήρα στο εργαστήριο. Ο μηχανικός καθαρισμός δεν θα προκαλέσει διάβρωση στον εξοπλισμό και μπορεί να καθαρίσει αποτελεσματικά τη σκληρή βρωμιά, αλλά χρειάζεται πολύς χρόνος και απαιτεί υψηλή ένταση εργασίας. Ο χημικός καθαρισμός εφαρμόζεται στις συνθήκες εργασίας με μαλακή και λεπτή βρωμιά και ο μηχανικός καθαρισμός εφαρμόζεται στις συνθήκες εργασίας με σκληρή και πυκνή βρωμιά.
Αν και η γυάλινη επένδυση του αντιδραστήρα έχει κάποια αντοχή στην κρούση, είναι τελικά ένα εύθραυστο υλικό και οι σκληρές συνθήκες εργασίας δεν του επιτρέπουν να έχει μικρά ελαττώματα. Επομένως, θα πρέπει να λαμβάνονται αποτελεσματικά μέτρα κατά τη μεταφορά, την αποθήκευση και την εγκατάσταση για να διασφαλίζεται η απόδοση λειτουργίας του εξοπλισμού του αντιδραστήρα στο εργαστήριο.